韩国总统尹锡悦访问荷兰期间，三星电子董事长李在镕等参与的三星电子与ASML的合作计划在半年内大幅缩减。

三星电子原计划引进荷兰公司ASML生产的下一代EUV（极紫外光）光刻设备，该设备是最先进半导体量产中必不可少的设备。然而，三星电子已将引进计划大幅缩减，双方在韩国建立联合研发中心的计划也因此中止。

这一举措引发了人们对三星电子未来获取下一代EUV量产技术及其对国内半导体生态系统影响的关注。

据多位业内人士透露，三星电子已于上月初通知全球领先的半导体设备企业ASML，将缩减其下一代High NA（高数值孔径）EUV光刻设备的采购数量。

ASML是全球唯一生产EUV光刻设备的荷兰公司。利用ASML垄断供应的EUV光刻设备可以制造出更精细的半导体，因此主要半导体公司都在努力预先购买这些设备。

High NA EUV光刻设备是在现有EUV设备基础上性能进一步提升的设备，英特尔公司几乎抢购了首批“EXE:5000”设备。三星电子也计划在今年内引进一台EXE:5000。

问题在于“EXE:5000”之后的新设备。三星原计划在未来10年内购买3台以上的下一代设备，包括EXE:5200、EXE:5400和EXE:5600等。然而，上月初，三星电子改变了立场，表示将引进EXE:5200，但之后的版本将待未来重新审议后再做决定。

这意味着，下一代设备的采购规模至少减少了2台，每台设备的价格超过5000亿韩元，相当于撤回了约1万亿韩元的设备投资。

据悉，这一决定是在副会长全英贤被任命为DS（设备解决方案）部门负责人后，审查正在进行的业务和投资后作出的。在上月初双方高层管理人员会晤时，三星电子传达了这一计划，双方预计不久后将开始修改相关合同。

去年12月12日（当地时间），正在荷兰进行国事访问的尹锡悦与荷兰国王威廉·亚历山大一同出席了在贝尔德霍芬ASML总部举行的韩荷先进半导体合作协议签署仪式。尹总统、荷兰国王、三星电子董事长李在镕和ASML首席执行官彼得·维宁克一同出席了仪式。

由于三星电子大幅修改了引进下一代High NA EUV设备的计划，三星电子与ASML共同建立先进半导体联合研究中心的计划也亮起了红灯。

三星电子与ASML原计划投资7亿欧元（约合1万亿韩元）在首都圈建立研发中心，并推动下一代光刻设备的开发，但由于三星电子修改了High NA EUV设备的引进计划，这一研究中心的建设讨论也暂时停止。

一位了解情况的业内人士表示，“为了建设研究设施，三星已购买了位于京畿道华城市的土地，并进行了设计和许可程序，但随着三星传达缩减设备采购计划，相关程序已全面中止。未来是否会在其他地点建立联合研究中心，还是联合研究中心的建设计划会彻底取消，需要在后续讨论中决定。”

此前，双方曾在尹锡悦去年12月访问荷兰期间，在ASML总部举行的韩国-荷兰半导体合作协议签署仪式上签署了在首都圈建立EUV联合研究中心的谅解备忘录（MOU）。

当时，尹锡悦在ASML总部举行的企业家座谈会上表示，希望这次韩国和荷兰的半导体联盟能更加稳固。他还在今年1月举行的以半导体产业为主题的民生讨论会上提到访问ASML总部的事，重申了对国际联合研究的支持。

三星电子董事长李在镕在结束与尹总统一同访问荷兰的行程回国时，在与记者会面时提到访问成果时表示，“几乎90%都与半导体有关。”

尹锡悦在访问荷兰期间，与荷兰国王、三星电子董事长李在镕、SK集团董事长崔泰源等一起参观了ASML总部的“洁净室”，并在ASML首席执行官彼得·维宁克的陪同下穿上了防尘服。

副会长全英贤上任后，三星电子的半导体业务战略似乎也进行了部分调整。去年签署的联合研究中心建设MOU之后，业内普遍预期三星将迅速获取开发最先进存储器所需的下一代EUV量产技术，并主导存储器微细化工艺创新。但由于设备采购计划的缩减及联合研究中心建设的中止，外界认为EUV技术获取的路线图可能会有所调整。

当时与尹总统一同访问荷兰的三星电子DS部门主管（现未来事业企划团长、三星高级技术研究院院长）京畿贤社长表示，三星已获得“High NA EUV”的技术优先权，并认为这为未来在DRAM和逻辑半导体领域更好地利用High NA EUV提供了契机。此外，京畿贤社长还强调，通过联合研究，三星将能够更好地利用High NA EUV，并称这是建立稳固合作关系的重要一步。然而，双方当时确定的合作方向如今部分已被修改。

这一决定预计也会对韩国半导体生态系统产生影响。特别是，双方的联合研究中心是为了促进韩国设备材料合作企业之间的顺畅沟通而推进的，但如果继续这样下去，规模缩减似乎不可避免。

一位熟悉半导体行业的业内人士评价道，“按照双方签订的合同，三星电子不仅能比竞争对手更早引进最先进的EUV设备，还能近距离观察EUV最先进技术的开发过程，但计划一旦调整，这些机会可能就会丧失。”

对此，三星电子方面表示，关于设备采购计划和时间表，具体细节无法公开。